Muitos produtos semicondutores no processo de produção precisam adicionar pó de grafite para promover o desempenho do produto, no uso de produtos semicondutores, o pó de grafite precisa escolher o modelo de alta pureza, granularidade fina, resistente a altas temperaturas, apenas de acordo com o exigência de tal, pode, ao mesmo tempo, de produtos semicondutores, não terá um efeito negativo, pó de grafite de acordo com a pequena composição abaixo para você falar sobre quais condições para o uso de semicondutores?
Pó de grafite
1, a produção de semicondutores precisa escolher pó de grafite de alta pureza.
Indústria de semicondutores para a alta demanda por materiais em pó de grafite, quanto maior a pureza, melhor, especialmente os componentes de grafite entram em contato direto com o material semicondutor, como molde de sinterização, teor de impurezas na poluição do material semicondutor, portanto, não apenas para o uso de a grafite deve controlar rigorosamente a pureza das matérias-primas, mas também por tratamento de grafitização em alta temperatura, o teor de cinzas em uma extensão mínima.
2, a produção de semicondutores precisa escolher pó de grafite de alto tamanho de partícula.
O material de grafite da indústria de semicondutores requer tamanho de partícula fino, o grafite de partículas finas não é apenas fácil de obter precisão de processamento, e resistência a altas temperaturas, pequenas perdas, especialmente para moldes de sinterização, requer alta precisão de processamento.
3, a produção de semicondutores precisa escolher pó de grafite de alta temperatura.
Como os dispositivos de grafite usados na indústria de semicondutores (incluindo aquecedores e matrizes de sinterização) precisam suportar repetidos processos de aquecimento e resfriamento, a fim de melhorar a vida útil dos dispositivos de grafite, os materiais de grafite usados em altas temperaturas com boa estabilidade dimensional e desempenho de impacto térmico .
Horário da postagem: 26 de novembro de 2021